一、基本原理

　　電化學設備主要原理可分為為電解氧化反應、電解還原反應、酸堿中和、離子平衡及極性水分子反應。

　　電解槽的陰極區內的水會形成一個堿性環境（pH>9.5）。在強堿性環境中，在這種離子溶液中，Ca2+(aq)Mg2+(aq)就會形成氫氧化鈣Ca(OH)2↓(垢)、碳酸鈣:CaCO3↓(垢)、氫氧化鎂Mg(OH)2↓(垢)；并吸附在陰極上或掉落在反應室底部。當水垢在陰極上析出到一定厚度時，自動刮垢套件可將吸附在陰極上的水垢刮下來，沉落在電解槽底部。定時打開排污閥，將存留在電解槽底部的污垢排出到水垢沉淀池。定期將水垢沉淀池中的上清液排回到系統，下部的固態物人工撈出并收集到水垢存放箱，每年集中無害化處理。

　　電解槽的陽極區內的水會形成一個酸性環境（pH＜3.5），陽極附近反應產生的Cl2、Cl•、O3、HO•、H2O2、活性氧原子等強效殺菌物質，尤其是水和氯氣結合后產生大量的次氯酸，可迅速殺滅水中的菌藻（包括軍團菌），并有效控制微生物生長。

　　◆陰極附近的反應：

　　2H2O(l)+2eˉ→H2(g)+2OHˉ(aq)

　　CO2(g)+OHˉ(aq)→HCO3ˉ(aq)

　　HCO3ˉ(aq)+OHˉ(aq)→CO32-(aq)+H20(l)

　　CO32-(aq)+Ca2+(aq)→CaCO3↓(垢)

　　2OHˉ(aq)+Ca2+(aq)→Ca(OH)2↓(垢)

　　2OHˉ(aq)+Mg2+(aq)→Mg(OH)2↓(垢)

　　◆陽極的反應：

　　4OHˉ(aq)→O2(g)+2H20(l)+4e-

　　2Clˉ(aq)→Cl2(g)+2eˉ

　　O2(g)+2OHˉ(aq)–2eˉ→O3(g)+H2O(l)

　　OHˉ(aq)–eˉ→HO•(aq)

　　2H2O(l)–2eˉ→H2O2(l)+2H+(aq)

　　H2O(l)–2eˉ→O(aq)+2H+(aq)

　　二、工藝流程

　　將電解水處理器連接到主循環冷卻水系統，待處理水經水泵加壓后通過過濾器并引入布水箱，完成布水后流入電解水處理器，電解過程中在陽極區域發生氧化反應，產生大量的強氧化性和酸性物質并儲存在酸性儲水箱，在酸性水泵定時啟動下沖擊式進入循環水，對整個循環系統進行除垢和殺菌滅藻。而在電解過程中陰極區域發生還原反應，在陰極板附近水中的鈣鎂離子主動結垢析出，之后水進入沉淀箱完成沉淀，上層清液引入循環水系統，下層污垢定時清理排出。

　　三、關鍵技術

　?。?）采用新材料鑄造及等離子體渡膜技術，對核心極板部件精密制造進行反復制造及等離子體鍍膜處理，大幅度提高耐候性、凝結性、防腐防污性和等級；

　　（2）采用本公司自行研發的自動刮垢技術，無需人工參與即可完成水中物質從液態到固態的轉移，大幅度節省設備維護成本；

　?。?）采用陰極板和陽極板配合膜技術，產生酸性和堿性水，一次性解決除垢、解決腐蝕和點蝕、殺滅水中細菌真菌和藻類，大幅度提高設備使用效果。

　　四、水污染防治效果

　　循環冷卻系統節水30%，減少80%排污水，100%替代化學藥劑使用（緩釋阻垢劑、殺菌滅藻劑及其他各類化學藥劑），100%回收凈水系統產生的高鹽廢水，濃縮倍數控制在10以上。

　　五、技術創新點

　?。?）采用新材料鑄造及等離子體渡膜技術，對核心極板部件精密制造進行反復制造及等離子體鍍膜處理，大幅度提高耐候性、凝結性、防腐防污性和等級；

　?。?）采用本公司自行研發的自動刮垢技術，無需人工參與即可完成水中物質從液態到固態的轉移，大幅度節省設備維護成本；

　?。?）采用陰極板和陽極板配合膜技術，產生酸性和堿性水，一次性解決除垢、解決腐蝕和點蝕、殺滅水中細菌真菌和藻類，大幅度提高設備使用效果。

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