電子廠用超純水處理設備介紹
一、超純水系統工藝配置說明
1、原水泵：供預處理系統正常工作的動力源，為保持后序設備的正常運行，增加壓力。泵相應設置高過熱保護器、壓力控制器，泛起故障自動報警。
2、原水箱：設高、低水位控制。對系統的給水起調節作用，防止自來水給水不足的影響，同時也可對自來水中的雜質起一定的沉淀作用。
3、全自動過濾器：采用石英砂濾料以除去原水中較大顆粒的懸浮物、泥沙、雜質及鐵離子等，降低水的混濁度。
4、全自動活性炭過濾器：利用活性碳的吸附能力有效地吸附原水中的有機物、游離性余氯、膠體、微粒、微生物、某些金屬離子及脫色等，使出水余氯含量<0.1mg/L，所以被廣泛用于糊口用水及食物產業、化工、電力等產業用水的凈化、脫氯、除油和去臭等。
5、全自動軟化水器：為防止反滲透滲出膜表面結垢，需降低原水中的硬度，所以在反滲透滲出系統前設軟化器，使原水硬度降低(一般總硬度低于50mg/L)。
6、保安過濾器：采用5μmPP濾芯以除去原水中微細的懸浮物、泥沙、雜質等
7、高壓泵：提供反滲透系統正常工作的動力源，為保持后序設備的正常運行，增加壓力。
8、反滲透系統：采用高脫鹽率的優質膜元件，單位膜面積的透水速度快、脫鹽率高;機械強度好;化學不亂性好，能耐酸堿和微生物的侵襲;使用壽命長，機能衰減小。
9、中間水箱：設高、低水位控制，貯存預處理水，對系統的給水起調節作用。
10、EDI增壓泵：為EDI設備提供所需壓力。
11、EDI設備：深度除鹽。
12、超純水箱：儲存超純水。
二、進水條件說明
進水：一般為反滲透的產水
進水電導率：<40μS/cm
進水壓力：<4.0bar
pH：6.0~8.2
溫度：4~450C
硬度(以CaCO3計)：CaCO3<1.0ppm
二氧化硅：<0.3ppm
H2S：<0.01ppm
TOC：<0.5ppm
TDS：<5.0ppm
氯總量：<0.05ppm
氧化劑：Cl2<0.05ppm，O3<0.02ppm
鐵、錳、硫化氫：<0.01ppm
油/油脂：未檢出
濁度：<1.0NTU
色度：<5APHA
三、先進型EDI設備控制說明
通過PLC可編程控制器和人機界面控制和顯示超純水處理設備產水的流量、壓力、液位、電導率和電阻率等數據。
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